Тема: Диффузионные процессы в тонких слоях пленок при изготовление БИС методом толстопленочной технологии ...

Базовые технологические процессы изготовления полупроводниковых ИМС (эпитаксия, термическое окисление, диффузия, ионное...
Методы получения толстых и тонких пленок приведены в [2, с. 195-172]. Особое внимание уделите изучению вопросов расчета и...

· стандартные и специальные технологические процессы в производстве РЭА; · методы сборки и монтажа
При изготовлении установочной серии проводят работы по выявлению возможных дефектов изготовленной продукции, по улучшению технологии производства...

Базовые технологические процессы изготовления полупроводниковых интегральных микросхем (ИМС) (эпитаксия, термическое окисление...
Методы получения толстых и тонких пленок приведены в [2, с. 195-172]. Особое внимание уделите изучению вопросов...

...с окисной изоляцией карманов). По технологии изготовления эти схемы уступали 2 года западным разработкам.
Деление пленочных ИС обусловлено не столько толщиной пленок , сколько методом их нанесения в процессе создания пассивных элементов.

...шло по пути совершенствования как сплавных, так и диффузионных транзисторов, а так же созданию и освоению новых методов их изготовления .
5.2.1.1. Технологические процессы получения тонких пленок . 1) Эпитаксия (упорядочение) – процесс ...

...основы и практическое применение различных электронных приборов. К физической электронике относят: электронные и ионные процессы в газах и проводниках.
При планарной технологии требуется обеспечить возможность создания рисунка тонких слоев из...